去离子水处理装备工艺选型有哪些

新工艺一：

原水(设有压力掩护)→增压泵→砂过滤器→炭过滤器→硬化器(依据地区分歧选 用)→周详过滤器→中央水箱→RO前水泵→周详过滤器→RO高压泵→RO反渗透体系→RO水箱→RO水增压泵→混床→终端周详过滤→装备用水(水质能够到达10MΩ.cm以上即0.06μs/㎝如下,25℃)。

新工艺二：

原水(设有压力掩护)→增压泵→砂过滤器→炭过滤器→硬化器(依据地区分歧选 用)→周详过滤器→中央水箱→RO前水泵→周详过滤器→RO高压泵→RO反渗透体系→RO水箱→RO水增压泵→通俗混床→抛光混床→终端周详过滤→装备用水(水质能够到达18MΩ.cm以上即0.056，μs/㎝如下,25℃)。

新工艺三：

原水(设有压力掩护)→增压泵→砂过滤器→炭过滤器→硬化器(依据地区分歧选 用)→周详过滤器→中央水箱→RO前水泵→周详过滤器→RO高压泵→RO反渗透体系→RO水箱→RO水增压泵→EDI电去离子主机→终端周详过滤→UV紫外线杀 菌→装备用水(水质能够到达16MΩ.cm以上即0.062 μs/㎝如下,25℃)。

新工艺四：

原水(设有压力掩护)→增压泵→砂过滤器→炭过滤器→硬化器(依据地区分歧选 用)→周详过滤器→中央水箱→RO前水泵→周详过滤器→RO高压泵→RO反渗透体系→RO水箱→RO水增压泵→EDI电去离子主机→去离子水箱→去离子水泵→抛光混床→终端周详过滤→UV紫外线杀 菌→装备用水(水质能够到达18MΩ.cm以上即0.055μs/㎝如下,25℃)。

新工艺五：

原水(设有压力掩护)→增压泵→砂过滤器→炭过滤器→硬化器(依据地区分歧选 用)→周详过滤器→中央水箱→一级RO高压泵→一级RO反渗透体系→RO水箱→二级RO高压泵→二级RO水箱→增压泵→EDI(CEDI)电去离子水主机→去离子水箱→去离子水泵→抛光混床→终端周详过滤→UV紫外线杀 菌→装备用水(水质能够到达18MΩ.cm以上即0.055 μs/㎝如下,25℃)。